技术资源 - Sources - D-Source

先进的 D-Source 磁控管技术
The Axcela™200/300’s 300的创新专利保护技术 D-Source 磁控管技术是系统的处理驱动器。其处理和性能优势如下：
  • 宽阔的处理窗口 (1-20 mtorr)
  • 高等离子密度
  • 更高的淀积率
  • 快速换靶（10分钟）
  • 全工作面的靶材腐蚀，带来：
    • >50% 的靶材利用率
    • 最小的再生周期
    • 最小的靶材成本
    • 最小的微粒（<30@1 µm TiW处理）
    • 最小的靶材几何结构，最高的采集效率
    • 均匀的薄膜、优于晶圆片内和晶圆片间的 3%


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