诱导性-耦合等离子源

• 2MHz资源/ 台上13.56MHz
• 偏压50-200V

性能

• 腐蚀率~ 200 Å/min或更高
• 舱室清洁频率最多5000圆片
• 系统正常运行时间可增至90%
• 减少微粒<10（@ 1um）

应用

• 衬垫金属的溅射清洁
• 无损清洁
• 电弧喷涂的铝质顶面及侧面护板
• 可选射频二极管